快速退火炉

快速热处理退火炉简称 RTP（Rapid Thermal Processing Furnace），由我公司借鉴了国际先进制造工艺，在伟德彩票注册炉的基础上自主研发而成，不但拥有极快的升温速率100℃/S，而且降温速率也有了质的飞跃，降温速率100℃/S。我们的工程师们巧妙地利用了冷壁工艺，以至于达到如此快的降温速度。真正的极速升温和极速降温！

    腔体采用了独有双层石英管结构，外层管进气，内层管出气，使得反应气氛与加工样品充分而均匀地接触。

  加热灯管之所以能够让硅片快速升温，是因为光源波长在0.3-4微米之间，石英管壁无法有效吸收这一波段的辐射，而晶片则正好相反。因此，晶片可以吸收辐射能量快速加热，而此时石英管壁仍维持低温，即所谓冷壁工艺。

应用领域：

Ø 快速热退火 (RTA); 离子注入后退火

Ø 石墨烯等气象沉积，碳纳米管等外延生长

Ø 快速热氧化 (,RTO); 热氮化 (RTN);

Ø 硅化 (Silicidation);

Ø 扩散 (Diffusion);

Ø 离子注入后退火 (Implant Annealing);

Ø 电极合金化 (Contact Alloying);

Ø 晶向化和坚化 (Crystallization and Densification);

    主要特点：

Ø 极速升温100℃/S，极速降温100℃/S；

Ø 双层炉管结构，气氛与样品接触更均匀；

Ø 直接测量样品表面温度，测温更精准；

Ø 炉膛根据设置可自动左右移动，可以满足更多的实验应用；

Ø 真空度可达9.8×10-4Pa；

技术参数：